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ニッチPhotoinitiator 2-EAQ:プロパティとアプリケーションの分析

27 Aug, 2025 2:06pm

 

抽象的な: 

この記事で紹介します 2-eaq (2-エチランアントラキノン)、比較的ニッチな光検証因子であり、その化学的特性と、光発作の分野でのユニークなアプリケーションの利点に焦点を当てています。また、現在の市場状況と使用中の予防策を分析し、関連業界の実務家に参照を提供します。

 

2-エチランアントラキノン (2として略された-eaq) 過酸化水素、染料中間体、光カル可能な樹脂触媒、光分解性フィルム、コーティング、光感受性重合開始剤などの産生に使用される重要な有機化合物です。今日、その応用については、光を光引きする分野でのアプリケーションについて説明します。

 

1。製品情報

 

 製品構造:

CAS 84-51-5

 外観: 明るい黄色から黄色の結晶性フレークまたはパウダー

 純度 (HPLC): ≥98.00%

 融解範囲: 108~111 ºc

 吸収ピーク: 256nm、275nm、325nm;吸収波長は430nmに達する可能性があり、目に見える光吸収領域に分類されます。

 

2。光拡張反応の原理

 

光エネルギーを吸収した後、2-EAQはcoと相互作用します-興奮したトリプレット状態のイニシエーターの三次アミン。水素抽象化により、2種類のフリーラジカルを生成します:フェノキシルラジカル (a) 開始活動がなく、高度に開始効率を持つアミノアルキルフリーラジカル。後者は重合と交差を開始します-オリゴマーと反応性希釈剤の反応をリンクします。

その後、フェノキシルラジカルは二分子の不均衡を経験して9,10を形成します-anthrahydroquinone (b) および2-eaq。フェノキシルラジカルとアントラヒドロキノンの両方は、O₂によって酸化でき、両方の反応が再生される2-eaq。したがって、好気性条件下では、光開始剤の効率は嫌気性条件下でそれよりも高くなります。言い換えれば、2-EAQは、重合における酸素阻害に対する感度が低いことを示します。

Principle of Photocuring Reaction

 

ただし2-EAQは、重合における酸素阻害に対する感度が低いことを示し、その中間生成物—フェノキシルラジカルとアントラヒドロキノン—どちらもフリーラジカル重合の阻害剤です。その結果、アントラキノンの光誘発活動-ベースの化合物 (2を含む-eaq) 比較的低いです。

 

2-エチランアントラキノン (2-eaq) 主にPCBのはんだマスクインクで使用されます (印刷回路基板)。

紫外線にさらされると、クロスを開始します-反応をリンクして、エッチングまたははんだ付けに耐性のある硬化層を形成します。

 

3。2の利点-はんだマスクのEAQ

 

 耐熱性 (はんだ温度抵抗):

2で形成された硬化層-EAQは、電子製品のはんだ付けプロセス中に遭遇する高温に耐え、剥離や障害なしに構造的および性能の安定性を維持し、PCB回路の信頼できる保護を確保することができます。

 

 耐薬品性 (エッチング抵抗、溶媒抵抗):

それにより、はんだマスクが腐食性エッチング溶液に優れた耐性を示すことができます (PCB製造中に正確な回路パターンを保存するために重要です) 一般的な有機溶媒、化学環境における硬化層の腫れ、溶解、または性能低下の防止。

 

 環境への親しみやすさ:

2-EAQ自体は、ROHSやReachなどの主流の環境規制に準拠しています。これにより、製造輸出に適しています-グレード電子製品は、企業が地球環境コンプライアンスの要件を満たし、グリーンエレクトロニクスの開発をサポートするのを支援します。

 

もし 製品の要件や技術的な問い合わせがあります。いつでもお気軽にお問い合わせください。私たちはあなたと協力することを楽しみにしています!