チオール-ene光硬化システムの仕組み・特徴・用途
要約
チオール-エン光重合 です 紫外線-開始された ステップ-多様な特性を持つポリスルフィドポリマーネットワークの合成を可能にする成長重合反応。このシステムは独自の反応機構を備えており、次のような優れた利点を発揮します。 低酸素阻害、低収縮率、高変換率、深硬化。などの分野で大きな応用可能性を秘めています。 エレクトロニクスと接着剤、 しかし、熱の影響を受けやすく、保存安定性が低いなどの課題にも直面しています。
チオール-チオールと一連の異なる不飽和化合物で構成されるエン系は、段階的な光重合によってポリスルフィドを合成できます。 ポリスルフィド は、多様な特性と応用分野を持つ独特の種類のポリマーです。
私。 核となる反応メカニズム
これ 重合プロセス UV によって開始されるアルケニル基へのチオールの段階的付加が含まれます。-管理されたフリーラジカル源。 初めは硫黄-中心にラジカルが形成されます。 チオールは最適な水素供与体として、両方と反応できます。 タイプ I 光開始剤によって生成されるフリーラジカル そして タイプ I 光開始剤の励起三重項状態。
硫黄ラジカルと不飽和結合との反応により炭素が生成されます。-中心のラジカル。 このようなアルキルラジカルは、2番目のチオール分子から水素を引き抜き、別の硫黄ラジカルを形成し、重合プロセスを継続的に維持することができます。

✿ 1. 開始:
紫外線は活性化させます 光開始剤 (例: タイプ I イニシエーター)、フリーラジカルまたは励起三重項状態を生成します。
✿ 2 。 水素移動:
開始剤ラジカルはチオールから水素原子を引き抜きます (R-SH) 分子、硫黄を形成-中心ラジカル (チイルラジカル)。
✿ 3. 付加反応:
チイルラジカルは不飽和二重結合を攻撃します (C=C) アルケンを分解して炭素を生成する-中心のラジカル。
✿ 4. チェーン転送:
このカーボンは-中心にあるラジカルは、から水素原子を引き抜きます。 別のチオール分子、新しいチイルラジカルと消費されたアルケン分子が生成されます。
✿ 5. チェーンの成長:
新しく形成されたチイルラジカルはアルケン二重結合と反応し続けます。 ステップ 3 と 4 を繰り返す 重合反応を維持し、最終的に架橋ポリマーネットワークを形成します。
II. システムの特徴
利点:
✿ 1. 低酸素阻害:
酸素によって生成された過酸化ラジカルはチオールによって効果的に還元され、活性チイルラジカルが再生されるため、反応は次のようになります。 酸素によって阻害されない。 脱酸素剤としても機能します。
✿ 2. 低い収縮率:
液体モノマーから固体ポリマーへの体積収縮率が極めて低い (3つだけ%-5%)を達成するのに役立ちます 密着性に優れ、内部応力を軽減します。
✿ 3. 高い変換率と深い硬化:
速い硬化速度、高いモノマー変換率、 厚いクロスを養生する-セクション (1cmまで)であり、製品は高い光透過性を持っています。
✿ 4. 調整可能なパフォーマンス:
選択することで さまざまな機能を持つチオール (例:トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオン酸)) アルケンモノマーなど、柔軟なエラストマーから硬質プラスチックまで、さまざまな材料を設計できます。
✿ 5. 幅広いモノマーの選択 & 高い反応性:
さまざまな アルケニルモノマー (例:ビニルエーテル、ノルボルネン) 反応に参加できる。 中でもノルボルネンは非常に反応性が高く、必要なのは1回だけです。-アクリレートの硬化エネルギーの10分の1。
✿ 6. 柔軟な光開始剤の選択:
一般的なタイプI 光開始剤s (例:光開始剤 1173、光開始剤 184) または タイプ II 光開始剤 使用できます。 高い下でも-強度が短い-UV 光を照射すると、チオールが直接切断されてフリーラジカルが生成され、開始剤が有効になります。-自由な硬化。
短所:
✿ 1. 保存安定性が悪い (ダークリアクション):
配合は 熱に敏感な また、保管中にゆっくりとした熱反応が起こり、前処理につながる可能性があります。-ゲル化して保存期間が限られます。
✿ 2. 原料臭:
チオール原料は通常不快な臭いがします (でも 硬化後の臭いは穏やかです)。
Ⅲ. 応用分野
まだ広く普及していませんが、チオール-eneシステムは以下の分野で応用されています。
✿ 電子産業:
として使用されます コンフォーマルコーティング。
✿ 接着剤とシーラント:
~の準備に採用されました 接着剤およびシーリング材。
✿ 印刷分野:
適用対象 特殊な印刷プロセス。
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